光刻机用UV光源，其通过特殊光学设计发射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外线通过掩膜掩孔对集成电路高精密线路完成蚀刻曝光显影的工作。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。波长光电为半导体行业提供两种光刻机曝光光源，汞灯平行光源和LED平行光源。其中LEDUV光源的冷光源特性又规避了菲林的通胀，对其良率有很大的提升。
曝光机（光刻机）汞灯平行光源
应用于：
半导体晶元光刻和高精度PCB板曝光等。以高压短弧球形汞灯作为光源，采用了柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜及抛物反射镜等光学镜组形成面光源，实现波长365nm的紫外光（i线为主），光束垂直照射于半导体光刻机掩膜板进行芯片光曝光，光能利用率高，光强分布均匀。
性能参数：
| 序号 | 项目 | 性能要求 |
| 1 | 型号 | HGUV-365-D6-400-AC |
| 2 | 光源 | 高压短弧汞灯 |
| 3 | 照明尺寸 | >160x160mm（可定制） |
| 4 | 工作波长 | 主波长360nm |
| 5 | 照明不均匀性 | <3% |
| 6 | 照明强度 | >30 mW/cm2 @ 365nm |
| 7 | 准直角（C Angle） | <2.5° |
| 8 | 倾斜角（D Angle） | <0.3° |
| 9 | 工作距 | 300-400mm |
| 10 | 温度/能量反馈 | 灯室温度实时检测/光路能量实时监测 |
| 11 | 灯源调节 | 光源位置可电控调节，X向：±5mm，Y向：±5mm，Z向：10mm |
| 12 | 冷却方式 | 风冷 |
曝光机（光刻机）LED平行光源
应用于：
半导体晶元光刻和高精度PCB板曝光等。以LED单波段或混合波段作为光源，采用了系列光学镜片整形后，输出均匀的平行光组成面光源（矩形或者特定形状光斑），实现波长365nm的紫外光（或者405nm、435nm混合光），光束垂直照射于半导体光刻机掩膜板进行芯片光曝光，光能利用率高，光强分布均匀。
规格及参数：
| 序号 | 项目 | 性能要求 |
| 1 | 型号 | UVLED-365-6-400-WC/AC |
| 2 | 光源 | LED |
| 3 | 工作波长 | 主波长365nm（可定制405nm、435nm或混合波段） |
| 4 | 照明尺寸 | >160x160mm（可定制6寸–12寸曝光面积） |
| 5 | 照明不均匀性 | <2% |
| 6 | 照明强度 | >30mw/cm2 @365nm（风冷）/>100mw/cm2 @365nm（水冷） |
| 7 | 准直角 | <2°（可定制） |
| 8 | 倾斜角 | <0.3° |
| 9 | 工作距 | 200-400mm（可根据客户需求进行定制） |
| 10 | 外形尺寸 | 长宽高≤550*350*600mm |
| 11 | 能量调节 | 调节控制LED功率（本地或远程） |
| 12 | 能量检测 | 光路能量实时监测 |
（文章来源：光电资讯）
