超精密两面抛光加工是化学机械抛光的应用(CMP)技术性，借助产品工件、碾磨颗粒物、抛光剂和抛光轮的机械作用，在工件打磨抛光环节中，发生部分持续高温和髙压，使产品与碾磨颗粒物、抛光剂和抛光轮中间最直接的化学物理转变，造成工件表面的化学物理转变。因为机械设备和化学变化的重合，工件表面的生成物逐渐被碾磨，从而使得工件表面光洁。两面喷砂工艺要在单层喷砂工艺的前提下发展起来，因为他可以有效的防止片状产品工件加工中地应力差及粘接偏差所引起的形变难题。

因此与单层打磨抛光对比，两面打磨抛光具备生产加工高效率、外表形变小、表层超光洁的优势。

一般的超精密两面打磨抛光系统软件由四个构成部分构成载产品工件和下抛光轮的操作台、增加荷载的布抛光轮、推动产品工件往复运动的行星轮和给予抛光剂装置。体系结构如下图所示。在两面打磨抛光环节中，因为抛光剂与抛光垫间的物理运动，抛光剂里的化学溶液和碾磨颗粒物在产品中产生化学反应。与此同时，在下抛光轮对工件转动工作压力影响下，除去工件表面的化学变化物。其作用是在工件表面随时变化的化学反应中产生一种有机化学膜。与此同时，因为旋转机械磨擦激光切割，去掉了这一层有机化学膜，超精密表层持续更替得到。这类超精密表层处理又称为分散耐磨材料CMP。在这样的加工过程中，不可以选择比产品工件硬度大的磨砂颗粒，只能选强度比产品工件软或相当磨砂颗粒。在机械设备和化学的多重影响下，工件表面持续造成一层非常薄的有机化学塑料薄膜，同时被断开，并实现很薄的表层处理，以此来实现工件表面的高精密、低外表粗糙度和没有表层处理缺点。不过目前的探索在反映层造成和除去细节方面还不太清楚，必须进一步的科学研究。

超精密两面打磨抛光的运动原理

双面抛光机整个的运动机构可以理解为是一个差动保护行星轮系统软件。结构如下图2-2所显示(a>如下图所示。四个交流伺服电机根据同步带传动推动四个主轴轴承转动后，中心轮、外齿轮、上抛光轮和下抛光盘以设置的角速转动。将待打磨抛光的产品工件放置于行星轮中，使它与行星轮内腔有一定的空隙，使产品在行星轮中获得局部性的随心所欲的随意挪动。依据差动保护基本原理，大家可以获得，当中心轮与外环线传动齿轮反方向转动时，行星轮将采取传动齿轮中间不利的关联推动，以一定的角速度绕核心轴旋转，与此同时转动，以此来实现工件转动和旋转。在下抛光面负载力的影响下，产品工件积极与左右抛光垫的摩擦运动。因为磨擦的功效，产品工件与左右抛光垫、抛光剂和抛光液里的碾磨颗粒物出现了化学物理转变，从而使得工件表层原材料产生反映且被除去，从而得到超光洁表层的实际效果。

两面打磨抛光的运动原理如下图2所显示(b)表明。打磨抛光前，并没有开关电源，中心轮和外齿轮处在静息状态，产品工件仍然处于静息状态。打磨抛光开始的时候，左右抛光轮在各个电动机转动下，角速度为口:反方向往复运动，中心轮和外齿轮也在各个电动机转动下，以各自角速度端口号与口3向反方向转动。行星轮9与中心轮和外齿轮转动，在其中待加工制作产品工件一起处于被动挪动。抛光剂根据上抛光轮3注入打磨抛光地区，给予对应的碾磨和润滑的实际效果，并提供化学反应的原材料。

在两面打磨抛光环节中，往上抛光轮的往下负荷从汽缸6往下充压，在液位传感器7的远程监控下完成即时压力控制。左右抛光轮速度基本一致，但角度反过来。这么做的目的在于降低工件力。工件健身运动两种情况。当行星轮9静止不动时，工件健身运动较为简单，即在上下抛光轮的反方向磨擦下完成往复运动；当行星轮绕核心轴旋转时，工件健身运动更复杂。产品工件随行星轮转动时，左右打磨抛光表层磨擦所带来的往复运动。因而，产品工件具备繁杂的斜抛运动，可以更好的使工件表面获得均匀打磨抛光。