由于众所周知的原因，中国难以获得EUV光刻机，甚至如今美国还联手荷兰限制对中国供应14纳米工艺以下的DUV光刻机，面对如此境况，中国芯片行业并未停止对先进工艺的探索，日前就有消息指出中国芯片企业已挖来台积电的前任高管，探索研发7纳米的新路径。

据悉这次深圳一家芯片企业已成功邀请到台积电前高管刘晓强，刘晓强曾担任台积电竹科12厂、中科15厂副厂长、也曾是南科14厂厂长，协助18厂建置5纳米产能与提升良率，拥有丰富的生产线量产经验，特别重要的是他拥有推进7纳米、5纳米工艺量产的经验，这对于中国芯片行业来说非常难得。

绕开EUV光刻机发展7纳米工艺，其实台积电一开始就是如此做的，当时台积电为了确保7纳米工艺的顺利量产，延续了此前以DUV光刻机量产16纳米、10纳米、7纳米的技术路线，而它也成功因此在7纳米工艺上领先于三星量产。

台积电以DUV光刻机生产7纳米，采用了多重曝光技术，由此实现了7纳米工艺，印证了以多重曝光技术加DUV光刻机是完全可以量产7纳米工艺的，而刘晓强恰恰经历这个阶段，这对于中国芯片行业绕开EUV光刻机发展7纳米工艺无疑是有力的支持。

当时台积电的7纳米工艺曾用于生产苹果A12处理器，而A12处理器的性能也提升了15%的性能；随后改用了EUV光刻机生产7纳米工艺之后，7纳米EUV工艺生产的A13处理器也不过比A12处理器提升了18%的性能，可见用DUV光刻机生产7纳米工艺也有不错的性能表现。

随着台积电已明确选择投入美国怀抱，因此业界将台积电称为美积电后，中国大陆开始大力猎挖中国台湾的芯片人才，希望通过获取更多芯片人才，加速中国芯片产业的发展，这一策略已取得巨大的成功。

据悉至今中国大陆的芯片行业从中国台湾猎挖的芯片人才已高达3000多人，而为了吸引这些人才的加入，中国大陆的芯片企业也开出了丰厚的薪酬，给出了三倍的薪酬、带薪年假等待遇，甚至还提供了人才公寓，从多方面给予这些人才厚待。

中国大陆芯片企业吸引这些人才的另一个重要原因则是中国大陆芯片行业的巨大发展前景，中国正在力推到2025年实现芯片自给率70%的目标，而目前中国的芯片自给率才达到三成多；同时海外的芯片行业陷入窘境，三星、联电、力机电等由于订单快速减少，为了争取有限的订单纷纷降价，为了控制成本导致这些芯片企业降薪裁员，这也促使不少海外芯片人才进入中国大陆寻找机会。

人才对于芯片行业非常重要，梁孟松的加入在两年时间就推动中国芯片制造工艺从28纳米发展到14纳米，随后又为7纳米工艺的研发打开了窗口；如今刘晓强的加入将为7纳米工艺的量产再添一把火。

刘晓强、梁孟松等芯片行业领军人才加入中国大陆芯片行业，将有助于吸引更多芯片人才加入中国大陆芯片行业，如此可望带动中国大陆芯片产业快速突破，相信在这些重要人才的带领下，中国必将实现7纳米工艺的量产。