国产先进光刻机什么时候量产已经传了几年，然而一直都没有确切的消息，此前一直都是自媒体在宣称国产先进光刻机何时量产，这次是权威媒体，权威媒体能报道自然就说明它的量产可能性很大。

这次的权威媒体是《新华网》，新华网报道指上海微电子正在推进28纳米光刻机的量产，预计在今年底前量产，并且还披露了光刻机的型号，光刻机的型号为SSA/800-10W，能如此明确就意味着它的量产是真的在推进。

28纳米光刻机仍然是DUV光刻机，而不是可用于5纳米以下的EUV光刻机，不过这对于中国芯片行业来说已是巨大的进步，毕竟此前国产光刻机一直止步于90纳米，达到28纳米已是国产光刻机的飞跃式进步。

国产28纳米光刻机其实早在两年前就传出已在验证当中，如今得到较为可信的消息说明它将进入量产，从时间上来说也较为可信，毕竟用2年时间来完善光刻机和产业链，时间足够。

28纳米光刻机还是干式光刻机和浸润式光刻机的分界线，国产光刻机达到28纳米，也就意味着国产光刻机解决了浸润式光刻的关键技术，这一技术可不仅限于28纳米，采用这个技术可以发展到7纳米，意味着后面的14纳米、7纳米光刻机的进展都将大大加快。

当下中国制造业有七成的芯片需求都是28纳米及以上的工艺，然而即使如此美国也还在不断加码，EUV光刻机早已不允许卖给中国，去年又限制14纳米以下的DUV光刻机出售给中国，今年上半年进一步加码限制，以至于ASML表示能对中国出售的最先进光刻机为38纳米的1980Di，可以说欺人太甚。

然而如今随着中国的28纳米光刻机即将量产，美国和ASML的这些限制将失去意义，仅剩下还能限制中国芯片的就只有EUV光刻机了，EUV光刻机是当下的5纳米、3纳米的关键设备，这项设备的研发难度相当大。

不过随着现有的芯片制造工艺达到3纳米，硅基芯片已逐渐接近极限，台积电的3纳米量产已有半年时间，然而至今的良率仍然低至55%，超低的良率导致财大气粗的苹果都承受不住，因此苹果迫使台积电修改了收费规则，从按标准晶圆收费改为按可用晶圆收费，而且苹果只有半数的iPhone15采用3纳米处理器，也就意味着接下来的2纳米难度更大。

面对着硅基芯片技术逐渐接近天花板，中国和美国都已展开研发量子芯片、碳基芯片、光子芯片等技术，而中国在量子芯片技术方面居于全球领先地位，合肥本源量子已筹建第一条生产线，并自主研发被称为量子光刻机的探针平台等，可以说中国在更先进的量子芯片技术方面将形成自己的技术体系，不再受海外限制。

国产先进的28纳米光刻机如成功量产，将缓解当前影响中国芯片发展的难题，为国产芯片推进量子芯片、光子芯片的商用争取时间，到那时候中国芯片将彻底弯道超车，成为全球芯片技术的领先者。