台积电拥有大约80部EUV光刻机设备，用于7nm、5nm、4nm等先进制程，且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程，这些都需要EUV光刻机设备协助。有市场消息表示，因首代3纳米制程客户可能仅剩苹果，使台积电决议放缓扩产进度，确保产能不会过度闲置造成成本压力。
先前彭博社报导，ASML EUV光刻机设备生产一天需3万度电，一年耗电约1,000万度，而新一代EUV光刻机设备每部耗电约1百万瓦，约为前几代设备10倍，预计2025年将占中国台湾整体能源消耗12.5%，半导体产业可能成为减少全球碳排放的“阻碍”。
针对外界质疑发展先进制程需耗费不少电力，台积电引述2020年工研院产业科技国际策略发展所（ISTI）模型推导分析结果，台积电每用1度生产用电，能为全球减省4度电。
外媒报导台积电计划从年底开始关机部分EUV设备，节省EUV巨大耗电。台积电表示，在维持正常营运的前提下，公司持续推进半导体高阶制程技术，生产更先进、更具能源效率及更环保的产品。此外，公司积极投入绿色制造，落实节能减碳相关作为，包括致力优化制程能源使用效率，同时和机台设备商合作开发新的节能行动方案。
