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半导体工业中的等离子加工对于氟橡胶真空密…
追溯芯片封装历史,将单个单元从整个晶圆中…
今天的市场需求越来越苛刻 …
引言 在半导体清洗过程中,作为取代 现有…
介绍 RCA标准清洁,在去除硅表面污染方…
不同清洗方法(离心和透析)对15纳米柠檬…
硅表面专门暴露在有机和金属污染中,以研究…
引言 单晶硅, 作为IC、LSI的电子材…
本研究开发了一种低拥有成本的臭氧去离子水…